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FDSOI
全耗尽型绝缘体上硅
FDSOI(Fully Depleted Silicon on Insulator,全耗尽型绝缘体上硅)晶圆是一种特殊结构的衬底材料,其核心特征是在传统硅衬底上增加超薄绝缘层(埋氧层,Buried Oxide)和硅薄膜结构。FD-SOI被公认为低功率、RF和毫米波应用的领先技术。
应用领域:物联网、射频器件、模拟芯片、汽车电子和工业控制芯片。
产
品
咨
询
结构组成
顶硅层
覆盖在埋氧层上的超薄单晶硅膜(通常<10 nm),直接用于制作晶体管沟道,无需掺杂即实现全耗尽状态
埋氧层
位于基底之上,由二氧化硅(SiO₂)构成,厚度通常在数十纳米级,提供电气隔离并减少寄生电容
硅基底
作为机械支撑层
核心优势
01
顶硅层
覆盖在埋氧层上的超薄单晶硅膜(通常<10 nm),直接用于制作晶体管沟道,无需掺杂即实现全耗尽状态
02
埋氧层
位于基底之上,由二氧化硅(SiO₂)构成,厚度通常在数十纳米级,提供电气隔离并减少寄生电容
03
硅基底
作为机械支撑层
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